真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

對于真空鍍膜加工單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。?

另外鏡片被鏡圈（）邊緣部遮擋、鏡圈（）臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。?

改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。

改善對策：?

㈠?條件許可，用行星夾具；?

㈡?選用傘片平坦（R大）的機臺；?

㈢?根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。?

㈣?如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。?㈤?改善鏡圈（），防止遮擋。?

㈥?注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋?㈦?清潔鏡圈（）?㈧?改善膜料蒸發(fā)狀況。

  真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用

　真空鍍膜機器設(shè)備關(guān)鍵用以在經(jīng)予解決的塑膠、瓷器等產(chǎn)品表層蒸電鍍金屬塑料薄膜(鍍鋁膜、鉻、錫、不銹鋼板等金屬材料)、七彩薄仿金膜等，進(jìn)而得到 明亮、美觀大方、;質(zhì)優(yōu)價廉的塑膠，瓷器表層金屬化產(chǎn)品。廣泛運用于轎車、摩托照明燈具、工藝美術(shù)品、裝潢裝飾、照明燈具、家俱、小玩具、酒瓶蓋、護(hù)膚品、手機上、鬧鈴、女土鞋后跟等行業(yè)。