脈沖激光沉積簡介

脈沖激光沉積，就是將激光聚焦于靶材上一個較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年脈沖激光沉積行業(yè)經(jīng)驗，專注脈沖激光沉積研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進的脈沖激光沉積生產(chǎn)設備和技術，建立了嚴格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話。 在眾多的薄膜制備方法中，脈沖激光沉積技術的應用較為廣泛，可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜，甚至還用來制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。

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