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發(fā)布時間:2020-11-26 16:07  





廣州市茂美標牌加工廠,座落于番禺區(qū)橋南街陳涌工業(yè)區(qū),專注于腐蝕面板加工,腐蝕面板定制,機械控制面板定做,不銹鋼蝕刻面板加工,機械面板腐蝕定制,設備蝕刻面板加工,腐蝕機械面板定制,機箱設備面板定制、電子秤按鍵面板定做等,接單領域主要集中在廣州、深圳 、佛山 、東莞、中山、珠海、江門、肇慶、惠州等地,均可加工定制生產。產品還有腐蝕標牌,不銹鋼直尺加工、鋁銘牌制作、不銹鋼銘牌制作、機械設備控制面板、亞克力標牌等。制作工藝:UV印刷、噴漆、絲印、熱轉印、凹凸,沖壓、磨光、拉絲、電鍍、氧化、噴砂、激光、注塑、磨光、電鑄、腐蝕等一體化的大型**標牌加工制作廠。

廣州市茂美標牌加工廠——廣州腐蝕面板加工,廣州腐蝕面板定制,廣州機械控制面板定做,機箱設備面板定制等。
蝕刻是制造薄膜晶體管液晶顯示裝置(ThinFirm Transistor Liquid Crystal Display,TFT_LCD)陣列基板過程中的一個重要制程。蝕刻工藝根據(jù)蝕刻劑的物理狀態(tài)分為干蝕刻工藝和濕蝕刻工藝,干蝕刻工藝利用蝕刻氣體進行蝕刻,濕蝕刻工藝利用蝕刻液體進行蝕刻。
現(xiàn)有的干蝕刻裝置通常包括:真空腔(未圖示)、設于所述真空腔內的上電極板(未圖示)、與上電極板相對間隔設置的下電極板1、位于所述下電極板I下方用于承載下電極板I的絕緣板2、設于所述下電極板I上的靜電吸附平臺3、位于上、下電極板I之間的等離子體(Plasma)真空放電區(qū)(未圖示)、及與上、下電極板相連的電源(未圖示),利用等離子體真空放電區(qū)內的高壓電場互相作用所產生的等離子體來對設于靜電吸附平臺3上的晶元或玻璃基板4進行蝕刻。

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干法刻蝕是用等離子體進行薄膜刻蝕的技術。當氣體以等離子體形式存在時,它具備兩個特點:一方面等離子體中的這些氣體化學活性比常態(tài)下時要強很多,根據(jù)被刻蝕材料的不同,選擇合適的氣體,就可以更快地與材料進行反應,實現(xiàn)刻蝕去除的目的。現(xiàn)有技術中,高速率干法刻蝕所用等離子激發(fā)手段主要為ICCP(Impressed Current CathodicProtect 1n,外加電流陰極保護),若要想進一步提高刻蝕速率,一般來說可以通過提高等離子體激勵源頻率來獲得更高的等離子體截止密度,達到提高刻蝕速率的目的。但提高激勵源頻率會導致電極表面駐波等問題,導致刻蝕速率不均勻,無法大面積均勻刻蝕。
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生產加工流程
首先將LCD面板/玻璃基板垂直放置于特定的匣具(Cassette)中,通過轉載小車送入頂噴設備的清洗區(qū),清洗去除蝕刻產品表面的異常雜質。完成清洗后,再通過設備中自動化的移動裝置Moving Stage將轉載蝕刻產品的卡匣輸送至蝕刻區(qū)進行蝕刻。根據(jù)蝕刻工藝要求,待到規(guī)定時間后,轉載產品的卡匣自動回到清洗區(qū),清除蝕刻產品表面殘留蝕刻藥液,完成產品的蝕刻減薄。

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濕蝕刻是借適當?shù)母g性溶液對所欲去除的膜層利用化學反應來去除的制程。
優(yōu)點:設備費用低廉,制程單純且量產速度快等。
缺點:CD loss較大,不易將線寬控制得極為精準等。易有under cut現(xiàn)象。
相比之下,腐蝕設備面板加工廠,干蝕刻異向性強,線寬穩(wěn)定性易于控制,缺點為機臺設備及維護費用高,量產速度慢。Procedure in wet etching濕蝕刻反應過程大概可以分為三個階段:
(1)反應物質擴散到欲被蝕刻材質的表面
(2)反應物與被蝕刻薄膜反應
(3)反應物的產物從蝕刻表面擴散到溶液中,并隨溶液排出。
在此三個階段中,反應慢者就是蝕刻速率的控制關鍵,就是說,該階段的進行速率即是反應速率。
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工藝特點
(1) 采用自配油墨,具有抗蝕性好、粘合力強、可自然干燥、轉印性能好等優(yōu)點;
(2) 采用自制球型腐蝕噴頭,腐蝕液能噴射成均勻半球面,腐蝕設備面板加工公司,適合復雜型腔腐蝕,腐蝕設備面板加工,加上型腔朝下,不會堆滯腐蝕液,能獲得腐蝕深度均勻、無※角、圖紋清晰、高質量的裝飾紋;
(3) 工藝方法簡單,操作容易,適合大、中、小模具,不受幾何形狀限制;
(4) 設備簡單,材料消耗甚少,主要消耗貼花紙、轉印油墨、保護漆,成本低廉,經濟效益高。


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企業(yè): 廣州市番禺區(qū)橋南茂美工藝品加工廠
手機: 13710288989
電話: 020-31562492
地址: 廣州番禺區(qū)橋南街陳涌工業(yè)區(qū)福愉西路890號501廠房