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襄垣氟化鎂生產(chǎn)廠家誠(chéng)信企業(yè)「多圖」

發(fā)布時(shí)間:2020-10-18 07:13  

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自20世紀(jì)60年代起,熱壓氟化鎂開始用于以中波紅外制導(dǎo)的以及飛機(jī)的紅外前視窗口、紅外吊艙、光電雷達(dá)等系統(tǒng)中,其中比較有代表性的紅外,如美國(guó)的“響尾蛇”、俄羅斯的、法國(guó)的“西北風(fēng)”、以色列的“怪蛇”等。氟化鎂可用于光學(xué)透鏡鍍膜。光學(xué)器材鍍上一層氟化鎂膜層,可以減少鏡頭界面對(duì)射入光線的反射,減少光暈,提高成像質(zhì)量。氟化鎂純度受鎂鹽影響很大,使用純度低的鎂鹽(碳酸鎂、氧化鎂)生產(chǎn)氟化鎂的主含量一般僅能達(dá)到75%,只能滿足電解鋁用添加劑、冶煉金屬鎂助熔劑用要求。




氟化鎂采用碳酸鎂與自產(chǎn)的氫氟酸為原料,通過對(duì)比確定了較優(yōu)的工藝路線和工藝參數(shù),具體為:碳化條件為控制碳酸鎂料漿濃度 3%、攪拌速度300r /min、碳化 12h,碳化率可達(dá)到 98% 。合成條件為控制氫氟酸過量 3%,采用氫氟酸打底的投料方式; 料漿沉降 12 小時(shí),過濾洗滌、140℃干燥 2h 后再在 550℃下煅燒 1h 即可達(dá)到鍍膜材料和熱壓多晶氟化鎂原料的要求,該方法同樣適用于工業(yè)級(jí)碳酸鎂制備高純氟化鎂生產(chǎn)。隨著大功率激光技術(shù)、紅外制導(dǎo)技術(shù)以及半導(dǎo)體光刻技術(shù)的迅猛發(fā)展,市場(chǎng)對(duì)氟化鎂的需求與日劇增,特別是高質(zhì)量單晶體在可以預(yù)見的一段時(shí)間內(nèi)都處于供不應(yīng)求的狀態(tài)。




氧化鎂晶體作為重要的化工、光學(xué)材料具有很多的優(yōu)良性能,包括:高溫下的低化學(xué)活性和高抗腐蝕性、高熱穩(wěn)定性、高硬度;此外,氟化鎂還具有雙折射性能和較高的激光損傷闕值。這些優(yōu)異的性能使得氧化鎂在光學(xué)、催化及其他很多領(lǐng)域都有重要作用。

公司專業(yè)生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)氟化工產(chǎn)品,冰晶石,氟化鋁,氟化鎂,氟化鈣,氟硼酸鉀,各種硫酸鎂,氧化鋁,顆粒冰晶石,a高溫氧化鋁,氫氧化鋁等產(chǎn)品.