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發(fā)布時間:2020-11-05 16:06  
產(chǎn)品特點非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波長反射率光譜,F(xiàn)E,分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。
應(yīng)用范圍■ FPD
?LCD、TFT、OLED(有機EL)
■ 半導體、復(fù)合半導體
?矽半導體、半導體雷射、強誘電、介電常數(shù)材料
■ 資料儲存
?DVD、磁頭薄膜、磁性材料
■ 光學材料
?濾光片、抗反射膜
■ 平面顯示器
?液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
■ 薄膜
?AR膜
■ 其它
?建筑用材料

大塚電子(蘇州)有限公司主要銷售用于光學特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車前燈等的光源?照明產(chǎn)業(yè)以及液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示產(chǎn)業(yè)以及其相 關(guān)材料的光學特性評價?檢查。歡迎新老客戶來電咨詢!
產(chǎn)品特點非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波長反射率光譜,F(xiàn)E3000設(shè)備,分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。寬闊的波長量測范圍。(190nm~1100nm)薄膜到厚膜的膜厚量測范圍。(1nm~250μm)對應(yīng)顯微鏡下的微距量測口徑。

原理為:利用單色儀和氙燈的組合可實現(xiàn)任意波段的激發(fā)光并以此來照射熒光材料樣品,再以光譜儀對產(chǎn)生的發(fā)光光譜進行測試并對其熒光材料特性做出評價。本系統(tǒng)采用了具有高靈敏度、高穩(wěn)定的本公司的光譜儀對光譜進行測量。
產(chǎn)品特點非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波長反射率光譜,分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。


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