真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

那么，真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件有哪些？我們一起來看看吧：

1、環(huán)境溫度：10~30℃

2、相對(duì)濕度：不大于70%

3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃

4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?/p>

5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz；

6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。

此外，真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。而且地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機(jī)械泵工作時(shí)排出的氣體對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。

氧化物怎么鍍膜？

氧化物鍍膜過程是很復(fù)雜的，但其主要影響因素就是鍍膜原料成膜的時(shí)候凝聚力、鍍膜與基材的吸附力及基材溫度，而三者之間又相互關(guān)聯(lián)約束。那氧化物的鍍膜到底是怎么個(gè)過程呢？下面我們就來聽聽真空鍍膜設(shè)備至成真空科技的講解！

從蒸發(fā)源射出的蒸汽流脫離蒸鍍?cè)媳砻娴臅r(shí)候溫度很高，能量也比較高，在上升通過蒸發(fā)區(qū)到達(dá)基材表面的過程中，由于碰撞、運(yùn)動(dòng)中的能量交換導(dǎo)致動(dòng)能下降，到達(dá)基材表面的粒子很快與基材交換能量，迅速沉積在其表面。

在鍍膜工藝中，離子轟擊改善基材的表面，在蒸發(fā)區(qū)建立等離子氣體以提高氣化微粒功能等輔助手段，較好地解決了鍍膜與基材結(jié)合牢固度的問題。其實(shí)在眾多的鍍膜工藝?yán)?，氧化物鍍膜工藝和程序是有非常大的難度的，因?yàn)樗媾R著很多因素影響，環(huán)境和材料等等，但是氧化物的鍍膜工藝卻是受到廣大的企業(yè)生產(chǎn)的親睞。所以這種鍍膜工藝和設(shè)備的發(fā)展趨勢(shì)會(huì)越來越好！

真空鍍膜機(jī)是如何操作真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機(jī)的

隨著真空鍍膜機(jī)的工藝發(fā)展不斷革新，而硬質(zhì)薄膜的設(shè)計(jì)向著多元化、多層膜的方向發(fā)展。成為現(xiàn)代企業(yè)優(yōu)選的鍍膜工藝。今天我們通過中國(guó)真空協(xié)會(huì)的剖析后，給予詳細(xì)作答。其實(shí)鍍膜機(jī)的正常操作方法應(yīng)該參考操作手冊(cè)的指示操作。

不過大致的操作程序，我們簡(jiǎn)單的說一下吧：

1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在;關(guān)位置。

2、打開總電源開關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。

3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。

4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。

5、落下鐘罩。

6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。

7、開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號(hào)：Fzh-1A)。

8、多弧離子鍍膜機(jī)當(dāng)?shù)驼婵毡?amp;ldquo;2”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。

9、真空鍍膜設(shè)備開通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。

10、低壓閥拉出。立式單開門鍍膜機(jī)重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕;轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表;內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開高壓閥。