中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

多弧離子鍍膜機的運用

多弧離子鍍膜機用于不一樣層次五金商品，通常的修建五金件、鎖具，用多弧離子鍍膜設(shè)備可擔任，中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛(wèi)浴潔具、飾品等，通常選用電弧/中頻（ 直流）磁控濺射復合型鍍膜設(shè)備，依據(jù)裝載量選用巨細機型。該設(shè)備可鍍黃金色、玫瑰金、咖啡色、棕色、古銅色、藍色等裝修膜。

蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

蒸發(fā)系統(tǒng)由蒸發(fā)源、送絲機構(gòu)、水冷擋板等組成。HD1500-12型高真空卷繞鍍膜機所用的蒸發(fā)源為氮化硼蒸發(fā)舟，它具有耐腐蝕、耐熱性能優(yōu)良、蒸鍍層純度高等特點。采用電阻加熱方式，由送絲機構(gòu)將鋁線連續(xù)不斷地送到對應(yīng)的蒸發(fā)舟表面，使它們迅速加熱得以蒸發(fā)。

蒸發(fā)舟的兩端各裝在正、負電極上，采用端部嵌入夾緊方式，縫隙墊以石墨紙。電極均采用內(nèi)部水冷結(jié)構(gòu)，避免發(fā)熱燒毀。每組蒸發(fā)源的功率可通過操作面板上的電位器進行單獨調(diào)節(jié)，也可以整體調(diào)節(jié)。

送絲機構(gòu)包括交流電機、減速器、摩擦壓輪組等，交流電機聯(lián)接減速器通過鏈輪驅(qū)動串接在傳動軸上的每組壓輪，實現(xiàn)鋁絲的同步輸送，送絲的速度由變頻器控制，可通過操作面板上的加速或減速按鈕進行調(diào)節(jié)，速度值在觸摸屏中顯示。

水冷擋板由固定的蒸發(fā)槽和活動擋板組成，兩者都要通水冷卻。蒸發(fā)槽安裝在底板上，主要用于阻止熱量向四周及下面擴散，活動擋板在蒸發(fā)槽的上面，通過真空室外部的氣動裝置可將其打開或關(guān)閉，它是用于在蒸發(fā)舟進行預(yù)加熱和卷繞系統(tǒng)未啟動或運轉(zhuǎn)速度較慢時隔絕熱源對基材的輻射，避免基材燒損。

pvd鍍膜設(shè)備鍍出的膜層出現(xiàn)異樣,是什么原因

之前有少數(shù)客戶會咨詢我們，為什么PVD鍍膜設(shè)備鍍出來的膜，偶爾會出現(xiàn)異樣的情況，問具體是什么原因。經(jīng)過我們技術(shù)人員上門檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費水平的提升，人們對產(chǎn)品外觀要求也越來越更高，PVD鍍膜的應(yīng)用也越來越廣泛。PVD鍍膜設(shè)備也獲得越來越多的制造業(yè)廠家認可和喜愛，它的優(yōu)勢也是顯而易見的。大家都知道機器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術(shù)。和傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強。但是大家也都知道它的缺點，PVD電鍍工藝不良率高、生產(chǎn)效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等，這是整個行業(yè)的痛點。隨著后期技術(shù)不斷的發(fā)展，環(huán)保要求門檻不斷提高，傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費者對產(chǎn)品外觀的提高，真空鍍膜技術(shù)在未來會有更廣闊的發(fā)展前景。

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準確，需要依靠經(jīng)驗。 2、極值監(jiān)控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監(jiān)控波長（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。