經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻：一種將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而du移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱(chēng)光化學(xué)蝕刻，指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

可以這樣認(rèn)為：光圈（值）大小其實(shí)就是那個(gè)小圓窗戶開(kāi)多大，快門(mén)（速度）就是窗戶打開(kāi)多久。假設(shè)窗戶只打開(kāi)1/4，時(shí)間為4秒鐘可以正確曝光的話，很顯然，窗戶打開(kāi)一半，時(shí)間2秒鐘也能讓底片正確曝光，因?yàn)?/4*4=1/2*2=1，進(jìn)光量都是一樣多。同樣的，如果窗戶全開(kāi)，曝光時(shí)間就只需要1秒了。 假若一個(gè)鏡頭光圈全開(kāi)為F4，用攝影行話來(lái)說(shuō)，光圈F4快門(mén)速度1秒為正確曝光值，那F5.6和2秒以及F8和4秒也同樣能得到準(zhǔn)確曝光的圖片。 重要結(jié)論：一張正確曝光的圖片可以有N種不同的光圈和快門(mén)速度組合。

曝光，是指被攝影物體發(fā)出或反射du的光線，通過(guò)照相機(jī)鏡頭投射zhi到感光片上，使之發(fā)生化學(xué)變化，產(chǎn)生顯dao影的過(guò)程。在攝影中，曝光就是光圈和快門(mén)的組合。

總結(jié)以上幾個(gè)名詞解釋?zhuān)腥齻€(gè)因素能影響一張圖片是否正確曝光：光圈，快門(mén)速度，ISO（感光度）。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。如果進(jìn)光量不夠，我們可以開(kāi)大光圈或者降低快門(mén)速度，還是不夠的話就提高感光度(ISO)。大光圈的缺點(diǎn)是解像度不如中等光圈，快門(mén)速度降低則圖片可能會(huì)糊，提高ISO后圖片質(zhì)量也會(huì)下降 。沒(méi)有的方案，如何取舍要靈活決定。