設(shè)計條件。廢水種類、處理量及水質(zhì)情況如表1。設(shè)計每天運行時間為6h?；赜盟|(zhì)要求達到

HB5472－91的C類水標(biāo)準(zhǔn)[4]。由于不同廢水水質(zhì)差異較大，因此對廢水進行分類預(yù)處理后，混合經(jīng)過膜

系統(tǒng)進行深度處理，膜產(chǎn)水達到排放標(biāo)準(zhǔn)回到電鍍生產(chǎn)線，膜濃水進行蒸發(fā)結(jié)晶處理，形成的晶體鹽密

封外運處理。1.2預(yù)處理。1.2.1工藝說明。預(yù)處理工藝流程見圖1。1）含廢水。含廢水由調(diào)節(jié)池泵

入2級破反應(yīng)槽，2級分別投加和稀硫酸調(diào)節(jié)pH后，再投入次進行氧化（一級破反應(yīng)

參數(shù)：pH=10～11，氧化還原電位ORP=0.30～0.35V；二級破反應(yīng)參數(shù)：pH=7～8，ORP=0.60～

0.65V），然后自流進入還原槽1，在此槽加入調(diào)節(jié)pH在8.5左右，全自動電鍍設(shè)備，并加入還原劑NaHSO3將多

余的NaClO進行還原。待和酸堿廢水一起后續(xù)處理。

鍍鋅設(shè)備排風(fēng)原則

希望大家通過本文的介紹，可以對鍍鋅設(shè)備排風(fēng)原則等方面的內(nèi)容有一定的認識與 了解。

1、設(shè)計局部排風(fēng)罩時，應(yīng)根據(jù)有害氣體特性和散發(fā)規(guī)律，工藝設(shè)備的結(jié)構(gòu)及其操作特點，合理地確定排風(fēng)罩的形式

和安裝方式。在不影響生產(chǎn)操作的情況下，應(yīng)盡可能設(shè)置密閉排風(fēng)罩，保證在排風(fēng)口處造成一定的風(fēng)速，以小的風(fēng)量、

的排除所散發(fā)的有害氣體。

2、同-類的槽子，排風(fēng)應(yīng)盡可能合并進入同一個排風(fēng)系統(tǒng)，但是一個完整的排風(fēng)系統(tǒng)內(nèi)， 排風(fēng)點不宜過多，電鍍設(shè)備公司，否則每

個排風(fēng)點的排風(fēng)效果不易均衡。

3、提高槽邊排風(fēng)的效果，減少排放量，排風(fēng)罩盡量靠近槽沿位置，盡 量降低排風(fēng)罩距離液面的高度，在條件允許的

情況下，槽面上可設(shè)置密閉式活動蓋板。當(dāng)槽面無法覆蓋時，則可在液面上加蓋等鍍鋅，鍍鋅設(shè)備排風(fēng)原則以減少

液面有害氣體的揮發(fā)。

高耐蝕性防護裝飾鍍輅

20世紀50年代中期以來，在防護裝飾性鎳/鉻或銅/鎳/鉻渡層體系中，多層鎳的應(yīng)用顯著提高了鍍件的耐蝕性能，進一步的研究表明，鎳/鉻鍍層的耐蝕性能不僅與鎳層的生質(zhì)和厚度有關(guān)，同時在很大程度上還取決于鍍層的結(jié)構(gòu)特征。鉻的電沉積與其他電鍍工藝相比不僅槽液特殊，而且形成金屬鉻的性質(zhì)也不同。如果在標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液(鉻酸酐250g/L.硫酸2.5g/L)中進行鍍鉻，雖然鍍層厚度僅為0.25~0.5μm，但由于內(nèi)應(yīng)力高，鉻層表面分會產(chǎn)生稀疏的粗裂紋。這不僅造成鍍件外觀缺陷，電鍍自動生產(chǎn)線更嚴重的是加重了底層的腐蝕，由于這一原因，發(fā)展了無裂紋鍍鉻工藝。雖然無裂紋鉻在加速腐蝕實驗和暴露實驗中具有良好的耐地性，電鍍設(shè)備，但在使用過程中，鉻層仍要產(chǎn)生粗裂紋。 在特定條件下，鉻層表面的裂紋和孔隙不僅無害，電鍍設(shè)備廠家，反而能提高整個鍍層體系的耐蝕性。20世紀60年代中期，國外對鍍鉻層微觀結(jié)構(gòu)進行了研究，開發(fā)了更耐蝕性的微裂紋鉻和微孔鉻新工藝。

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