氦質譜檢漏儀的結構

分析器

分析器作用是使不同質荷比的離子按不同軌跡運動，從而將它們彼此分開，僅使氦離子通過其出口隙縫。分析器由一個外加均勻磁場及一個出口電極組成，如圖4所示。磁場方向與離子束入射方向垂直。

由離子源出來的離子束射入它垂直的磁通密度為B的均勻磁場分析器中后，由于分析場中電場為零，所以離子僅受磁場的洛倫茲力作用而作半徑為R的圓周運動。偏轉半徑R與質荷比M/Ze有關，當B及U一定時，相同質荷比的離子具有相同的運動半徑，不同質荷比的離子將以不同的半徑偏轉而彼此分開。質荷比小的偏轉半徑小，質荷比大的偏轉半徑大。在偏轉180°處，用一分析器出口電極將其他離子擋住，而使氦離子軌道對準出口電極上的狹縫，氦離子穿過狹縫到達離子收集極形成氦離子流。

真空系統(tǒng)一般包括：

1）主泵。一般用擴散泵或渦輪分子泵。極限壓力小于5×10-1Pa，其抽速應與氣載匹配。

2）前級真空泵。一般采用旋片式機械真空泵，在以分子示為主泵的系統(tǒng)中，也有采用薄膜泵或干泵的。極限壓力小于1×10-1Pa，抽速與主泵匹配。

3）預抽真空泵。一般與前級真空泵共同一個泵，也有預抽真空泵的。預抽真空泵一般采用旋片式機械真空泵，其抽速視被檢件大小而定，因此預抽真空泵大都由用戶自配。

4）冷阱。分子泵型真空系統(tǒng)一般不加冷阱。擴散泵型真空系統(tǒng)的冷阱加在質譜室、檢漏口與擴散泵之間，使三者被冷阱隔離，如圖5所示。冷阱加入液氮后便可阻止擴散泵的油蒸氣和被檢件來的水蒸氣進入質譜室，保持質譜室的清潔，并幫助擴散泵迅速獲得較高真空。

5）檢漏閥。按在質譜室和被檢件之間的管道上。有些儀器采用節(jié)流閥，控制流入質譜室的氣體流量。

6）真空規(guī)。一般采用冷陰極磁控放電真室規(guī)來測量質譜室中的壓力。也有用電阻規(guī)或熱偶規(guī)測量被檢件的預抽壓力和系統(tǒng)的前級壓力的。

7）標準漏孔。一般儀器內都附有標準漏孔（大多為薄膜滲氦型），用它來校準儀器的小可檢漏率和對儀器輸出指示進行定標。

怎么樣影響氦質譜檢漏儀檢測精度

受到檢測壓力的影響

泄漏率對測試壓力的依賴性，對不同的測量條件是不同的。一般而言，對于多孔性(如鑄造氣泡、裂縫)較高時，試驗壓力對泄漏率的影響較大，而對于多孔性較低時則影響較小。另外，隨測試壓力的，還會帶來諸如溫度影響，所需穩(wěn)定時間加長等一系列問題。因此，建議對特定的工件可采用在一定壓力范圍內進行泄漏檢測，然后選擇一個滿足測試要求的較低的壓力確定為終的測試壓力。試漏機試漏壓力的選擇必須充分考慮被測零件各個機構對于測試壓力的承受能力。