蝕刻、曝光和顯影的意思分別是：

1、蝕刻：

一種將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

2、曝光：

指在攝影過程中進入鏡頭照射在感光元件上的光量，由光圈、快門、感光度的組合來控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光，攝影感光材料的感光。

3、顯影：

在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，噴砂曝光顯影廠家，讓影像顯現(xiàn)的一個過程。通常指在復(fù)印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。

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顯影液中放入適量的化鉀，不但可以起到較好的抑制灰霧的作用，而且還可以增加影像的反差。但是，如果加入的量太多或由于顯影生成的比物的累積增多，將使顯影速度降低、密度降低，噴砂曝光顯影，感光度下降，細部層次也有所損失。

感光材料顯影一定時間，出現(xiàn)了清晰可見的影像后，這時必須將感光材料從顯影液中取出，馬上進行水洗或用停顯液漂洗，除去顯影液，使顯影停止下來這一過程叫停顯。如果后面使用的定影液是酸性定影液，噴砂曝光顯影生產(chǎn)廠家，則這一步常常被水洗所代替。停顯液是酸性水溶液，常用的有醋酸、硼酸、硫酸等，一般都使用弱酸。

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