脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。脈沖激光沉積系統(tǒng)配置介紹想要了解更多脈沖激光沉積的相關(guān)內(nèi)容，請及時(shí)關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站。

另外，PLD 是一種“數(shù)字”技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（A°/pulse）。

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司以誠信為首 ,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積,公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！

脈沖激光沉積系統(tǒng)的特點(diǎn)有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發(fā)源或?yàn)R射源

?  可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺(tái)

?  流量計(jì)或針閥準(zhǔn)確控制氣體流量

?  標(biāo)準(zhǔn)真空計(jì)?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室

?  可選配基片-靶材距離自動(dòng)控制系統(tǒng)

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設(shè)備

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