磁控濺射設備的主要用途

（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，磁控濺射鍍膜機，以提高太陽能電池的光電轉換效率。（2）裝飾領域的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。（3） 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積（CVD）或金屬有機（4）化學氣相沉積（MOCVD）生長困難及不適用的材料薄膜沉積，而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。（5） 在光學領域：中頻閉合場非平衡磁控濺射技術也已在光學薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。特別是透明導電玻璃目前廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻*裝置與器件、傳感器等。（6）在機械加工行業(yè)中，表面功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜的表面沉積技術自問世以來得到長足發(fā)展，能有效的提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩(wěn)定性能，從而大幅度地提高涂層產(chǎn)品的使用壽命。磁控濺射除上述已被大量應用的領域，磁控濺射鍍膜機供應商，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。

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磁控濺射

磁控濺射法是在高真空充入適量的ya氣，在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓，磁控濺射鍍膜機哪家好，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，磁控濺射鍍膜機報價，使ya氣發(fā)生電離。

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磁控濺射鍍膜機

銦錫氧化物( Indium Tin Oxide ，簡稱ITO) 薄膜是一種用途廣泛的透明導電材料，已成熟的應用于電機車擋風玻璃、液晶顯示器件、太陽能電池、全息照相和液晶彩色電視等，蓄勢待發(fā)的應用領域為有機發(fā)光二極管顯示器(Organic Light-Emitting Diode ，簡稱OLED) 。從應用角度出發(fā)，通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ，薄膜中銦錫低價化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制備方法很多，如噴涂、蒸發(fā)、射頻濺射和磁控濺射等。隨著液晶顯示器技術向高精細化和大型化發(fā)展，磁控濺射法備受歡迎。

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