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磁控濺射裝置-創(chuàng)世威納科技公司

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發(fā)布時間:2020-12-18 16:11  






磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜儀設(shè)備發(fā)展至今,在工業(yè)方面顯的極為重要,其作用范圍廣泛,徹底的改變了傳統(tǒng)的鍍膜行業(yè)。使得鍍膜作業(yè)在生產(chǎn)質(zhì)量方面以及效率方面都得到了較大的提升。那么磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢呢?

磁控濺射鍍膜儀設(shè)備主要有一下優(yōu)勢:

1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷?。?/p>

2、對于大部分材料,只要能制成耙材,就可以實現(xiàn)濺射;

3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好;

4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好;

5、濺射工藝可重復(fù)性好,可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜;

6、能夠準確控制鍍層的厚度,同時可通過改變參數(shù)條件控制組成薄膜的顆粒大?。?/p>

7、不同的金屬、合金、氧化物能夠進行混合,同時濺射于基材上;

8、易于實現(xiàn)工業(yè)化。

隨著科技的發(fā)展,磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在日常中個方面都有著極大的貢獻,不僅在節(jié)能環(huán)保方面有著重大的提升,更為重要的是其解放了勞動人民的雙手,讓勞動者徹底的從傳統(tǒng)鍍膜行業(yè)中解放。


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磁控濺射鍍膜設(shè)備的主要用途

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1.各種各樣多功能性的塑料薄膜鍍一層薄薄的膜。所鍍的膜通常可以消化吸收、散射、反射面、折射角、偏光等實際效果。 

2.服裝裝飾設(shè)計應(yīng)用領(lǐng)域,例如各種各樣光的反射鍍一層薄薄的膜及其透明色鍍一層薄薄的膜,可可用在手機殼、電腦鼠標等商品上。 

3.電子光學(xué)制造行業(yè)行業(yè)中,其是這種非快熱式鍍一層薄薄的膜技術(shù)性,關(guān)鍵運用在有機化學(xué)氣候堆積上。 

4.在電子光學(xué)行業(yè)中主要用途極大,例如光學(xué)薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和全透明導(dǎo)電性夾層玻璃等層面獲得運用。 

5.在機械制造業(yè)生產(chǎn)加工中,其表層作用膜、超硬膜這些。其功效可以出示物件表層強度進而提升有機化學(xué)可靠性能,可以增加物件應(yīng)用周期時間。












磁控濺射鍍膜機原理

由此可見,磁控濺射裝置,濺射過程即為入射離子通過一系列碰撞進行能量交換的過程,入射離子轉(zhuǎn)移到逸出的濺射原子上的能量大約只有原來能量的1%,大部分能量則通過級聯(lián)碰撞而消耗在靶的表面層中,并轉(zhuǎn)化為晶格的振動。濺射原子大多數(shù)來自靶表面零點幾納米的淺表層,可以認為靶材濺射時原子是從表面開始剝離的。如果轟擊離子的能量不足,則只能使靶材表面的原子發(fā)生振動而不產(chǎn)生濺射。如果轟擊離子能量很高時,濺射的原子數(shù)與轟擊離子數(shù)之比值將減小,這是因為轟擊離子能量過高而發(fā)生離子注入現(xiàn)象的緣故。

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