磁控濺射中靶zhong毒是怎么回事，一般的影響因素是什么？

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靶zhong毒的物理解釋

（1）一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶zhong毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導(dǎo)通能力，降低了等離子體阻抗，導(dǎo)致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間，當(dāng)發(fā)生靶zhong毒時(shí)，濺射電壓會(huì)顯著降低。（2）金屬靶材與化合物靶材本來(lái)濺射速率就不一樣，一般情況下金屬的濺射系數(shù)要比化合物的濺射系數(shù)高，所以靶zhong毒后濺射速率低。（3）反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來(lái)就比惰性氣體的濺射效率低，所以反應(yīng)氣體比例增加后，綜合濺射速率降低。

鍍膜機(jī)保養(yǎng)的重要性

大家都知道，鍍膜機(jī)的運(yùn)行狀況會(huì)直接影響鍍膜成品的質(zhì)量，為了更好的運(yùn)行，要對(duì)鍍膜機(jī)進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)，那么，那么知道真空鍍膜機(jī)維護(hù)和保養(yǎng)的意義嗎？下面，小編給大家講解一下它們的意義。設(shè)備的日常維護(hù)保養(yǎng)是在生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)不正常現(xiàn)象，盡快解決。發(fā)現(xiàn)機(jī)械泵油減少要添加，不要認(rèn)為油要定期才更換，否者到了維護(hù)時(shí)，泵的轉(zhuǎn)子可能會(huì)磨損嚴(yán)重。例如，一些軸承工件轉(zhuǎn)架卡，要更換軸承，否者等到它完全破碎，問(wèn)題可就大了，可能會(huì)出現(xiàn)電機(jī)燒毀等問(wèn)題。定期維護(hù)保養(yǎng)，有些人會(huì)問(wèn)一個(gè)日常維護(hù)和定期維護(hù)的區(qū)別？實(shí)際上，每個(gè)設(shè)備都有使用壽命，例如，擴(kuò)散泵用的硅油，使用壽命為兩年左右，我們提早更換，這是浪費(fèi)嗎？不是，在生產(chǎn)中不希望出現(xiàn)設(shè)備故障，把日常維護(hù)保養(yǎng)和定期維護(hù)保養(yǎng)都做好了，磁控濺射鍍膜機(jī)，不僅延長(zhǎng)了設(shè)備的使用壽命，還減少了運(yùn)行故障，提高生產(chǎn)效率。

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磁控濺射鍍膜機(jī)的工作原理

控濺射原理電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與原子發(fā)生碰撞，電離出大量的離子和電子，電子飛向基片。離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與原子發(fā)生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材，經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，終沉積在基片上。 磁控濺射就是以磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑，改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片，真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽(yáng)極在同一電勢(shì)。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。至于靶面圓周型的濺射輪廓，那是靶源磁場(chǎng)磁力線呈圓周形狀。磁力線分布方向不同會(huì)對(duì)成膜有很大關(guān)系。 在機(jī)理下工作的不光磁控濺射，多弧鍍靶源，離子源，等離子源等都在此原理下工作。所不同的是電場(chǎng)方向，電壓電流大小而已。

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