磁控濺射鍍膜機的注意事項

1、保持機器內艙各部位的清潔；

2、關注真空度指標；

3、檢查并記錄抽真空的時間，如有延長，立刻檢查造成的原因；

4、記錄濺射功率和時間（一般濺射機的銀靶設定功率為0.6千瓦，金靶的設定功率為0.75千瓦，鉻的行走速率為9000pps），如有異常，立刻檢查造成的原因；

5、根據鍍出石英振子的散差，調整遮擋板的各部尺寸；

6、濺鍍后的石英振子要用3M膠帶檢查其牢固度；

7、測試并記錄鍍好的石英振子主要指標，如：頻率、電阻、DLD等；

8、將不良品挑出：電極錯位、劃傷、臟污、掉銀等（工位上要有不良品示意圖）。

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我國真空鍍膜機行業(yè)發(fā)展現狀和前景分析

當前我國真空鍍膜設備行業(yè)等傳統(tǒng)制造業(yè)產能過剩已經顯現，倒逼效應顯著，國家大力發(fā)展環(huán)保產業(yè)，對傳統(tǒng)電鍍行業(yè)予以取締或轉型或限產，這正是離子鍍膜行業(yè)發(fā)展的大好時機。真空鍍膜的高性價比以及傳統(tǒng)電鍍對環(huán)境的污染迫使真空鍍膜成為了主流，各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設備不斷增加。

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磁控濺射原理

濺射過程即為入射離子通過--系列碰撞進行能量和動量交換的過程。

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與Ar原子發(fā)生碰撞，電離出大量的Ar離子和電子，電子飛向基片，磁控濺射儀，在此過程中不斷和Ar原子碰撞，產生更多的Ar離子和電子。Ar離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

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創(chuàng)世威納科技(多圖)-磁控濺射儀由北京創(chuàng)世威納科技有限公司提供。北京創(chuàng)世威納科技有限公司位于北京市昌平區(qū)回龍觀北京國際信息產業(yè)基地高新二街2號4層。在市場經濟的浪潮中拼博和發(fā)展，目前創(chuàng)世威納在電子、電工產品制造設備中享有良好的聲譽。創(chuàng)世威納取得商盟認證，我們的服務和管理水平也達到了一個新的高度。創(chuàng)世威納全體員工愿與各界有識之士共同發(fā)展，共創(chuàng)美好未來。