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發(fā)布時間:2020-12-31 03:03  

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使用顯微光譜法在微小區(qū)域內通過絕i對反射率進行測量,可進行高i精度膜厚度/光學常數分析。

可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度,例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上,能達到1秒/點的高速測量,并且搭載了即使是初次使用的用戶,也可容易出分析光學常數的軟件



硬涂層膜厚度的測量[FE-0004]

近年來,使用具有各種功能的高i性能薄膜的產品被廣泛使用,并且根據應用不同,還需要提供具有諸如摩擦阻力,抗沖擊性,耐熱性,薄膜表面的耐化學性等性能的保護薄膜。通常保護膜層是使用形成的硬涂層(HC)膜,但是根據HC膜的厚度不同,可能出現不起保護膜的作用,膜中發(fā)生翹曲,或者外觀不均勻和變形等不良。 因此,管理HC層的膜厚值很有必要。





膜厚儀如何系統校準?

校準的方法、種類,這是新用戶經常會遇到的問題。系統校準、零點校準還有兩點校準其實都已經在說明書上寫到了,用戶只需仔細閱讀就可以了。需要注意的是:在校準鐵基時1好是多測量幾次以防止錯誤操作;系統校準的樣片要按照從小到大的順序進行。如果個別標準片丟失可以找與其數值相近的樣片代替。


 膜厚儀廠家解釋凡其厚度與入射光波長相比擬的并能引起干涉現象(相干光程小于相干長度)的膜層為薄膜,其厚度遠大于入射光波波長的膜層稱之為厚膜。如今,微電子薄膜,光學薄膜,抗1氧化薄膜,巨磁電阻薄膜,高溫超導薄膜等在工業(yè)生產和人類生活中的不斷應用,在工業(yè)生產的薄膜,其厚度是一個非常重要的參數,直接關系到該薄膜材料能否正常工作。