真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，河源水表防水鍍膜，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，水表防水鍍膜供應(yīng)商，靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，水表模級(jí)防水鍍膜市場，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

       潮濕、腐蝕、進(jìn)水是造成電子產(chǎn)品壽命降低或損壞的重要因素，在電子產(chǎn)品表面涂敷防護(hù)涂層，是提高電子產(chǎn)品使用壽命的重要方法之一。

　　目前大多數(shù)電子產(chǎn)品采用三防漆和派瑞林涂層實(shí)現(xiàn)防水與防護(hù)，然而由于三防漆和派瑞林涂層相對(duì)較厚，涂敷于電子產(chǎn)品表面后影響產(chǎn)品的外觀、導(dǎo)電性、散熱性和信號(hào)傳輸性。因此如何利用納米級(jí)別涂層替代三防漆和派瑞林，在保證防水、防護(hù)性能的同時(shí)，盡量減少其對(duì)產(chǎn)品的外觀、導(dǎo)電性、散熱性和信號(hào)傳輸性的影響，是電子產(chǎn)品防水涂層研發(fā)過程中需要解決的關(guān)鍵技術(shù)問題。

       釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強(qiáng)磁材料。目前國內(nèi)常用兩種方法進(jìn)行防護(hù)，一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時(shí)會(huì)影響磁性材料的表磁等特性，有的在鹽霧試驗(yàn)時(shí)仍不能對(duì)釹鐵硼磁性材料提供有效的防護(hù)。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進(jìn)行電泳涂敷，但電泳涂敷時(shí)工件表面必須有一掛點(diǎn)，掛點(diǎn)的修補(bǔ)不僅費(fèi)工費(fèi)時(shí)，而且質(zhì)量難以保證，而Parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進(jìn)行無支點(diǎn)全涂敷防護(hù)。派瑞林（Parylene）又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）進(jìn)行防護(hù)。

       用制備派瑞林的方法是化學(xué)氣相沉積法(CVD)，反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學(xué)反應(yīng)，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進(jìn)而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過程為環(huán)狀二聚體在高溫下兩個(gè)相連碳碳鍵斷裂，生成具有活性的對(duì)二亞苯單體，當(dāng)其從高溫環(huán)境進(jìn)入室溫環(huán)境的沉積室時(shí)，不穩(wěn)定的單體就會(huì)聚合成膜。整個(gè)制備工藝過程分為三步：單體的汽化、裂解、在基材表面進(jìn)行附著沉積。

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