PECVD(Pulse Enhanced Chemical Vaporized Deition，電漿輔助化學(xué)氣相沉積)工法并配合密閉抽真空設(shè)備，水表模級(jí)防水鍍膜供應(yīng)商，所以納米等級(jí)的涂層顆?？梢皂樦麢C(jī)產(chǎn)品的微小縫隙飄進(jìn)并附著于整機(jī)產(chǎn)品內(nèi)部的大多數(shù)角落位置，也因?yàn)橥繉拥目p隙比水分子還小，所以可以起到隔絕濕氣對(duì)電子產(chǎn)品的影響。另外，梅州水表防水鍍膜，由于涂層的厚度大概有5-50nm，彈簧類零件（如連接器）只要經(jīng)過摩擦就可以輕易的刮除這些涂層，達(dá)到電氣接觸的目的。

隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)薄膜的反射率和透射率有了不同的要求，這促進(jìn)了多層高反射薄膜和寬帶抗反射薄膜的發(fā)展。對(duì)于各種應(yīng)用，高反射膜用于制造偏振反射膜、分色膜、發(fā)光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層上多次反射透射，形成多光束干涉。通過控制薄膜層的折射率和厚度，可以獲得不同的強(qiáng)度分布，這就是干涉涂層。

       離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度，水表防水鍍膜有哪些，同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源，如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。

       陽(yáng)極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長(zhǎng)方形或圓形）窄縫中施加強(qiáng)磁場(chǎng)，在陽(yáng)極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽(yáng)極層離子源可以做得很大很長(zhǎng)，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽(yáng)極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，水表防水鍍膜供應(yīng)商，且能級(jí)分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于光學(xué)鍍膜并不太多。

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