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發(fā)布時(shí)間:2021-01-01 14:46  

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真空蒸鍍可應(yīng)用在哪些產(chǎn)業(yè)?主要產(chǎn)業(yè)大多應(yīng)用于裝飾、光學(xué)、電性、機(jī)械及防蝕方面等,現(xiàn)就比較常見者分述如下:1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等),鏡片置于半球支頂,一次可鍍上百片以上。2.金屬、合金或化合物鍍膜,應(yīng)用于微電子當(dāng)導(dǎo)線、電阻、光電功能等用途。3.鍍鋁或鉭于絕緣物當(dāng)電容之電極。4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗yang化性,耐溫達(dá)1100OC,可應(yīng)用須耐高溫環(huán)境的工件,如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線。



PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來,真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為了當(dāng)代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法,沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下,涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì),經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后,在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。



PVD鍍膜膜層的特點(diǎn):采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn),膜層的壽命更長(zhǎng);同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類:PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法,它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。



熱鍍鋅鍍層厚度的作用和影響

熱鍍鋅鍍層的厚度決定了鍍件的防腐蝕性能。詳細(xì)討論請(qǐng)參見附件中由美國(guó)熱鍍鋅協(xié)會(huì)提供的相關(guān)數(shù)據(jù)。用戶可以選擇高于或低于標(biāo)準(zhǔn)的鋅鍍層厚度。

對(duì)于表面光滑的3mm以下薄鋼板,工業(yè)生產(chǎn)中得到較厚的鍍層是困難的,另外,與鋼材厚度不相稱的鋅鍍層厚度會(huì)影響鍍層與基材的結(jié)合力以及鍍層外觀質(zhì)量。過厚的鍍層會(huì)造成鍍層外觀粗糙,易剝落,鍍件經(jīng)不起搬運(yùn)和安裝過程中的碰撞。

鋼材中如果存在較多的活性元素硅和磷,工業(yè)生產(chǎn)中得到較薄的鍍層也十分困難,這是由于鋼中的硅含量影響鋅鐵間的合金層生長(zhǎng)方式,會(huì)使ζ相鋅鐵合金層迅速生長(zhǎng)并將ζ相推向鍍層表面,致使鍍層表面粗糙無光,形成附著力差的灰暗鍍層。