基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強(qiáng)的大小. 為了保證膜層質(zhì)量，壓強(qiáng)應(yīng)盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時，沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子，因而形成的膜層結(jié)構(gòu)疏松，顆粒粗大，缺陷多;反之，膜層結(jié)構(gòu)均勻致密，機(jī)械強(qiáng)度高，膜層內(nèi)應(yīng)力大.

d、基片的溫度.在通常情況下，鍍鈦怎么收費(fèi)，基片溫度高時，吸附原子的動能隨之增大，形成的薄膜容易結(jié)晶化，并使晶格缺陷減少;基片溫度低時，則沒有足夠大的能量供給吸附原子，金屬鍍鈦怎么收費(fèi)，因而容易形成無定形態(tài)薄膜.

帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡單作用過程。

PVD技術(shù)四個工藝步驟

(1)清洗工件：接通直流電源，處理鍍鈦怎么收費(fèi)，氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

PVD是英文Physical VaporDeition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，阜陽鍍鈦怎么收費(fèi)，在基材上沉積形成不同顏色和質(zhì)感的薄膜。PVD膜層賦予產(chǎn)品表面金屬質(zhì)感和豐富的顏色，并改善耐磨、耐腐蝕性，延長壽命。已經(jīng)廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、建筑五金、模具刀具等產(chǎn)品。

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