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發(fā)布時間:2024-10-10 15:06  








射頻濺射
采用射頻電源代替直流電源,家具鍍鈦廠家怎么收費,在靶和襯底間施加高頻電壓,濺射時,靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(yīng)(即靶極會自動處于負電位狀態(tài)),使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。
優(yōu)點可以濺射所有材料,包括導體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)
磁控濺射
磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場,把二次電子束縛在靶表面,成螺旋狀運行來增強電離效率,增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

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