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發(fā)布時間:2024-08-28 03:20  








感應加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場感應加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。
優(yōu)點蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定,不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低,坩堝材料對膜導污染較少缺點蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價高、設備復雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,到達襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。
與真發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點)材料,具有附著力強、成分可控、易于規(guī)模化生產(chǎn)等優(yōu)點。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。


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