射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時，靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(yīng)（即靶極會自動處于負(fù)電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料，包括導(dǎo)體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運(yùn)行來增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

真空鍍鈦是指在真空的環(huán)境下，采用弧光放電，把陰極鈦靶作為蒸發(fā)源，宿州處理不銹鋼鍍鈦，通過鈦靶與陽極機(jī)體之間的弧光放電，處理不銹鋼鍍鈦電話，使鈦靶材蒸發(fā)并形成離子體，產(chǎn)生的離子體高速向產(chǎn)品上運(yùn)動，在產(chǎn)品表面進(jìn)行沉積，形成了鈦膜層。要想鍍出堅(jiān)固的鈦層，處理不銹鋼鍍鈦公司，首先要有好的設(shè)備。因?yàn)樵阱兡み^程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，處理不銹鋼鍍鈦哪家好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴(yán)重的還會脫鈦。


現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費(fèi)事。離子鍍的鍍層組織致密、無、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù)，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復(fù)，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能


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