NaOH濃度對蝕刻速度影響

NaOH濃度對蝕刻速度影響：在蝕刻溫度不變的情況下，增加NaOH濃度，蝕刻速度加快。但在實際生產中也不能制地增加NaOH濃度，原因是：a、NaOH濃度對蝕刻速度影響太高的NaOH濃度稠度太大，影響反應的正常進行，同時也增加了對抗蝕層的要求；b、NaOH濃度對蝕刻速度影響NaOH濃度太高將使成本投入增大，零件帶出量增大，不利于進行低成本的加工；c、過快的蝕刻速度回使鋁合金表面粗糙度增大。NaOH濃度一定以80g/L-120g/L為宜，只有在特別需要情況下才會使用更高濃度的NaOH蝕刻液。

興之揚微孔網片能加工多小的孔？

對于加工微孔網片來說，不了解的人常問我們的問題就是“興之揚微孔網能加工多小的孔”。有些客人以為蝕刻可以加工任意大小任何形狀的孔，其實并不是這樣。蝕刻雖然加工的孔比激光和沖壓的孔更精密孔徑更小，但是還是受到材料，厚度等條件的限制，并不是所有的孔徑都能無條件加工。

首先我們需要了解一下微孔網蝕刻加工開孔的原理：微孔網一般是金屬材質，主要以不銹鋼為主。蝕刻就是通過絲印或網印的方式，通過曝光顯影把材料上不需要開孔的部分遮住，然后用化學或電化學方式腐蝕出孔的部分，后褪去保護不被腐蝕的外膜，這樣就能獲得所需的微孔網片。

微孔網能做多小的孔和菲林制圖非常相關，一般來說，如果菲林能刻0.04mm的孔徑和0.04mm的縫寬，在此基礎上能夠加工0.05mm的孔，基本來說真實蝕刻的孔徑一般是菲林孔徑的1.2倍。

微孔網能加工多小的孔和材料厚度也有關系，以垂直開孔為例，一般的話孔徑會在厚度的1.2倍，也有能夠達到1:1的，也就是多厚的材料加工多大的孔。如果是開錐形孔，也叫喇叭孔，在這種情況下，需要開孔工件的材料厚度可以是開孔孔徑的2倍。

興之揚蝕刻電視304不銹鋼網小編來給大家講解什么是干法蝕刻：

電漿干法蝕刻主要應用于集成電路制程中線路圖案的定義，通常需搭配光阻的使用及微影技術，其中包括了1)氮化硅(Nitride)蝕刻：應用于定義主動區(qū)；2)復晶硅化物/復晶硅(Polycide/Poly)蝕刻：應用于定義閘極寬度/長度；3)復晶硅(Poly)蝕刻：應用于定義復晶硅電容及負載用之復晶硅；4)間隙壁(Spacer)蝕刻：應用于定義LDD寬度；5)接觸窗(Contact)及引洞(Via)蝕刻：應用于定義接觸窗及引洞之尺寸大??；6)鎢回蝕刻(EtchBack)：應用于鎢栓塞(W-Plug)之形成；7)涂布玻璃(SOG)回蝕刻：應用于平坦化制程；8)金屬蝕刻：應用于定義金屬線寬及線長；9)接腳(BondingPad)蝕刻等。

影響干法蝕刻特性好壞的因素包括了：1)干法蝕刻系統(tǒng)的型態(tài)；2)干法蝕刻的參數(shù)；3)前制程相關參數(shù)，如光阻、待蝕刻薄膜之沉積參數(shù)條件、待蝕刻薄膜下層薄膜的型態(tài)及表面的平整度等。